| 申请日期 | 2025-06-25 | 申请号 | CN201510323481.4 |
| 公开（公告）号 | CN106319454A | 公开（公告）日 | 2017-01-11 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国科学院金属研究所 | ||
| 简介 | 本发明涉及梯度MCrAlX涂层单靶电弧离子镀一步制备方法，属于涂层技术领域，可用于制备抗高温氧化和热腐蚀涂层及热障涂层的粘结层等。MCrAlX：M包括但不限于Fe、Co、Ni、Ti、Pt、Zr、W、Nb、B或其组合，X为稀土元素包括但不限于Y、La、Hf、Ce、Gd、Dy或其组合。利用二次溅射现象，通过在镀膜过程中实时调节偏压，可由单一MCrAlX靶，不借助于其他工艺，一步获得铝、铬成分由涂层表面到内部呈梯度变化的梯度MCrAlX涂层。本发明利用了电弧离子镀高离化率及高偏压下涂层反溅射的特点，使得梯度MCrAlX涂层可由单一靶材获得，并且所制备涂层组织致密，工艺稳定性和制备效率高，远优于其他多个工艺组合制备梯度涂层的方法，成本较低，适于工业化应用。 | ||
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