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Atomic layer deposition coating for high-temperature ceramic components 发明申请

2023-06-05 3050 2762K 0

专利信息

申请日期 2025-07-21 申请号 JP2021530891
公开(公告)号 JP2022510278A 公开(公告)日 2022-01-26
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
简介 Certain embodiments of the present disclosure relate to methods of forming coated articles. In one embodiment, a method comprises depositing one or more rare earth metal-containing ceramic compounds on an article by atomic layer deposition, for example, to coat surfaces of high aspect ratio internal channels.


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