客服热线:18202992950

一种半导体用的铜线及其制备方法 发明申请

2023-03-27 4720 318K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 CN201610736631.9
公开(公告)号 CN106244844A 公开(公告)日 2016-12-21
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 芜湖楚江合金铜材有限公司
简介 本发明公开了一种半导体用的铜线及其制备方法,由以下重量份的原料制备而成:Cu 77~88份、镁1.2~1.8份、银0.4~0.7份、铁0.05~0.15份、铬2.1~5.2份、铝2~4份、镍0.10~0.38份、钼1.8~2.5份、钕1.2~4.4份、铈3.3~3.5份、碳2~4份、稀土元素1~5份。本发明由Cu、镁、银、铁等,且镧、铈、镨、钕、钷经过熔炼、拉伸加工、退火热处理等工序制成直径为18~25μm的铜线。由于铜线的成分中铜含量大于99.99%,并控制其他微量元素的含量,采用这种合金成分的铜线,既可以提升铜线的延伸率,从而改善焊接效果,又具有比金线成本更低的优点。


您还没有登录,请登录后查看下载地址


反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报  |  京ICP备2021025988号-4