| 申请日期 | 2025-09-10 | 申请号 | CN201610629763.1 |
| 公开（公告）号 | CN106147218A | 公开（公告）日 | 2016-11-23 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 杜秀艳 | ||
| 简介 | 本发明涉及一种改性的高阻隔薄膜，所述薄膜包括表层a、芯层、表层b，其特征在于：表层a中MXD6的含量为30～40％，PA6的含量为63～85％，防粘母料的含量为2～4％，相容剂的含量为3～8％，纳米稀土成核剂的含量为5.5～8％；芯层中MXD6的含量为95～99.9％，纳米稀土成核剂的含量为0.1～5％；在表层b中MXD6的含量为10～30％，PA6的含量为63～85％，防粘母料的含量为2～4％，相容剂的含量为8.5 12％，纳米稀土成核剂的含量为2～4.5％。本发明所提供的改性的高阻隔薄膜提高了断裂伸长率，降低了雾度。 | ||
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