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ION BEAM SPUTTERING WITH ION ASSISTED DEPOSITION FOR COATINGS ON CHAMBER COMPONENTS 发明申请

2023-04-28 4500 459K 0

专利信息

申请日期 2025-06-26 申请号 US15211993
公开(公告)号 US20160326625A1 公开(公告)日 2016-11-10
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Applied Materials Inc
简介 An article comprises a body and a conformal protective layer on at least one surface of the body. The conformal protective layer is a plasma resistant rare earth oxide film having a thickness of less than 1000 μm, wherein the plasma resistant rare earth oxide is selected from a group consisting of YF3, Er4Al2O9, ErAlO3, and a ceramic compound comprising Y4Al2O9 and a solid-solution of Y2O3—ZrO2.


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