| 申请日期 | 2025-07-21 | 申请号 | CN202111210414.3 |
| 公开（公告）号 | CN113943929A | 公开（公告）日 | 2022-01-18 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 河南科技大学 | ||
| 简介 | 本发明属于磁控溅射制备镀覆层领域，具体涉及一种TiLaN复合薄膜的制备方法及耐磨制品。该方法包括以下步骤：(1)采用磁控溅射方式在基体上镀覆稀土合金过渡层；所述稀土合金过渡层由La和Ti组成，La为合金元素；(2)采用磁控溅射方式在稀土合金过渡层上镀覆TiLaN膜层；TiLaN膜层由以下质量分数的组分组成：Ti 55.3‑59.2％，La 4.1％‑6.9％，N 26.2‑30.8％，其余为O。本发明的TiLaN复合薄膜的制备方法，在磁控溅射TiN薄膜时掺杂稀土元素La，实现了复合薄膜的稀土改性，所得复合薄膜具有良好的硬度和摩擦学性能。 | ||
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