| 申请日期 | 2026-04-27 | 申请号 | TW103126891 |
| 公开（公告）号 | TWI555832B | 公开（公告）日 | 2016-11-01 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 柯尼卡美能达股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种抛光材料颗粒，其具有适于精密抛光的抛光性能，并且具有高抛光速度和高单分散性； 包含所述抛光材料颗粒的抛光材料； 以及使用该抛光材料的抛光处理方法。 研磨材料粒子是平均纵横比为1.00～1.15的球状粒子，从粒径累积分布曲线求出的研磨材料粒子的粒径(d50(nm))为50～1500nm。 铈的平均含量或铈和至少一种选自镧(La)的元素的总含量， 抛光材料颗粒中的镨(Pr)，钕(Nd)，钐(Sm)和铕(Eu)相对于构成抛光材料颗粒的所有稀土元素的总含量为81摩尔%或更高。 | ||
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