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Transition from III-N to rare earths in semiconductor structures 发明申请

2023-10-31 2260 3434K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 JP2021526488
公开(公告)号 JP2022507504A 公开(公告)日 2022-01-18
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 アイキューイー ピーエルシー
简介 In view of the high-temperature issues in III-N layer growth process, embodiments described herein use layered structure including a rare earth oxide (REO) or rare earth nitride (REN) buffer layer and a polymorphic III-N-RE transition layer to transit from a REO layer to a III-N layer. In some embodiments, the piezoelectric coefficient of III-N layer is increased by introduction of additional strain in the layered structure. The polymorphism of RE-III-N nitrides can then be used for lattice matching with the III-N layer.


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