| 申请日期 | 2025-06-30 | 申请号 | CN201610172146.3 |
| 公开（公告）号 | CN106007809A | 公开（公告）日 | 2016-10-12 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 通用电气公司 | ||
| 简介 | 本发明提供了在CMC基材上使用的涂层体系，所述涂层体系可以包括：所述CMC基材表面上的连接涂层；所述连接涂层上的第一稀土硅酸盐涂层；所述至少一个稀土硅酸盐层上的增强稀土硅酸盐基质的牺牲涂层；所述牺牲涂层上的第二稀土硅酸盐涂层；和所述第二稀土硅酸盐涂层上的外层。所述第一稀土硅酸盐涂层包含至少一个稀土硅酸盐层，且所述第二稀土硅酸盐涂层包含至少一个稀土硅酸盐层。所述牺牲涂层具有约4密耳 约40密耳的厚度。还提供了用于将牺牲涂层带式沉积在CMC基材上的方法。 | ||
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