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一种铽钬离子注入的镀锌钕铁硼磁体及其制备方法 发明申请

2022-12-25 4050 381K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201610555107.1
公开(公告)号 CN106024237A 公开(公告)日 2016-10-12
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 安徽万磁电子有限公司
简介 本发明公开了一种铽钬离子注入的镀锌钕铁硼磁体,由下述组分按质量百分比组成:Pr Nd:25 35%、B:0.5 1.5%、Al:0.1 1%、Cu:0 0.2%、Co:1 2%、Ga:0.1 1%、Nb:0.02 0.08%、Zr:0.01 0.05%、介孔二氧化硅0.1 1%,余量为Fe和材料中少量不可避免的杂质;本发明生产的烧结钕铁硼磁体晶型结构均匀,靠近磁体核心的区域重稀土含量偏低,保证了磁体的剩磁基本不受影响,靠近磁体表面的区域重稀土含量偏高,显著提高了磁体的矫顽力,钕铁硼烧结磁体的缺点得到全面改善、优点得到大幅提高。


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