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一种带有复合镀膜的钕铁硼稀土永磁器件的制造方法 发明授权

2023-09-30 1110 1143K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 CN201410107547.1
公开(公告)号 CN103824693B 公开(公告)日 2016-08-17
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 沈阳中北通磁科技股份有限公司
简介 本发明公开了一种带有复合镀膜的钕铁硼稀土永磁器件的制造方法,首先进行合金熔炼,在熔融状态下将合金浇铸到带水冷却的旋转铜辊上冷却形成合金片, 接着进行氢破碎,氢破碎后进行混料,混料后进行气流磨,之后在氮气保护下用混料机混料后送到氮气保护磁场取向压机成型,成形后在保护箱内封装,然后取出进行等静压,之后送入烧结设备烧结和时效制成钕铁硼稀土永磁磁体,之后进行机械加工制成钕铁硼稀土永磁器件,之后对钕铁硼稀土永磁器件进行镀膜,镀膜共分3层,第一层为磁控溅射镀层,镀层厚度为:0.02-5μm,第二层为磁控溅射和多弧离子镀的混合镀层,镀层厚度为:1-10μm,第三层为磁控溅射镀层,镀层厚度为:0.1-5μm;采用复合镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序,不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力,同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。


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