| 申请日期 | 2026-03-15 | 申请号 | CN201410591720.X |
| 公开（公告）号 | CN105624617A | 公开（公告）日 | 2016-06-01 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国科学院金属研究所 | ||
| 简介 | 本发明涉及电弧离子镀制备致密MCrAlRe型涂层的方法，属于涂层技术领域。MCrAlRe：M代表Fe、Co、Ni、Ti或其组合，Re为稀土元素包括Y、La、Hf、Ce、Dy或其组合；MCrAlRe型涂层是一种广泛应用的高温防护涂层，传统电弧离子镀工作气压一般为10-10-1Pa，制备的MCrAlRe型涂层通常比较疏松且存在气体夹杂现象，需要进行除气和高温致密化处理。本发明利用高真空电弧放电现象，将电弧离子镀工作气压降低3-4个数量级，达到10-3-10-4Pa，进行无气沉积。由本发明方法可获得致密、无气体夹杂、结合力优异的MCrAlRe涂层，大幅提升涂层性能，可免除常规工艺制备该类涂层后续普遍使用的热处理等工艺，成本低，适于工业化应用。 | ||
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