| 申请日期 | 2025-06-25 | 申请号 | CN201510924990.2 |
| 公开（公告）号 | CN105543797A | 公开（公告）日 | 2016-05-04 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 朱惠冲 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种铼镧稀土合金高能电子注射靶的制备工艺，其特征在于，它是应用铼的高温熔点与钨最接近弥合性成形性好，将铼元素与镧元素先行弥散融合成靶后，对钨基线材外表进行纳米级高能离子注入。本发明可避免高成本的粉冶合金过程和大量消耗稀土资源，环保节能。 | ||
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