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一种钕铁硼稀土永磁器件表面防护的真空镀膜设备及方法 发明申请

2023-07-20 2900 547K 0

专利信息

申请日期 2025-07-12 申请号 CN202111411400.8
公开(公告)号 CN113838660A 公开(公告)日 2021-12-24
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 天津三环乐喜新材料有限公司; 北京中科三环高技术股份有限公司
简介 本发明涉及永磁器件表面防护技术领域,尤其涉及一种钕铁硼稀土永磁器件表面防护的真空镀膜设备及方法,首先进行稀土永磁原材料的配料、熔炼、浇筑成合金片、氢碎、混料和气流磨,气流磨后在氮气保护下用混料机混料后送到氮气保护磁场取向压机成型,成型后在保护箱内封装进行等静压,之后送入烧结炉中烧结,时效制成钕铁硼稀土永磁器件,之后再经机加工制成所要求形状的稀土永磁器件。本发明的多弧与磁控溅射混合镀层解决了单纯多弧离子镀和磁控溅射镀存在的缺陷。基于磁控溅射和多弧离子溅射法所具有的缺陷,最终可以得到表面平整光滑、致密细腻、无麻点、无多孔起泡和起皮的镀层,镀层结合力增强,耐盐雾能力增强。


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