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一种高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃及其制备方法 发明申请

2023-09-27 4360 425K 0

专利信息

申请日期 2025-06-26 申请号 CN202111226713.6
公开(公告)号 CN113816604A 公开(公告)日 2021-12-21
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国计量大学
简介 本发明公开了一种高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃及其制备方法,属于发光玻璃技术领域。所述的高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃,原料包括30~45份AlF3、10~20份InF3、0~10份YF3、35~50份MF2和5~13份ErF3,其中M为碱土元素。本发明提供的高掺铒低羟基含量3.5微米氟化物激光玻璃拥有宽的透光范围、低的折射率、低的声子能量、低的羟基含量和高的稀土掺杂浓度,在650nm波长的激光二极管泵浦下获得很强的3.5μm荧光,为中红外波段激光器提供一种合适的基质材料。


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