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用于电浆处理腔室部件的覆层 发明申请

2023-02-12 4620 673K 0

专利信息

申请日期 2026-04-25 申请号 TW110105272
公开(公告)号 TW202147381A 公开(公告)日 2021-12-16
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 美商兰姆研究公司
简介 提供一种在电浆处理室中用之含铝元件体上提供覆层的方法。在元件体上形成阳极化层。研磨阳极化层以减少表面粗糙度。借由气溶胶沉积、电浆汽相沉积、及原子层沉积中之至少一者将含稀土层沉积在经研磨之阳极化层上。


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