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一种高性能电容引线框架 发明授权

2023-04-09 1010 237K 0

专利信息

申请日期 2026-04-22 申请号 CN201911392358.2
公开(公告)号 CN111128944B 公开(公告)日 2021-12-10
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 南通南平电子科技有限公司
简介 本发明公开了一种高性能电容引线框架,由以下原料按质量百分比计制得:银0.15~0.25%、铝0.20~0.30%、锰0.05~0.08%、锡0.15~0.25%、硅0.45~0.62%、铅0.90~1.50%、锑0.03~0.04%、稀土元素0.01~0.02%、余量为铜及不可避免的微量杂质,本发明制得的电容引线框架的导电性较传统的电容引线框架的导电性大大提升。


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