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一种磁控溅射烧结系钕铁硼磁体晶界扩散防粘连的处理方法 发明申请

2023-07-03 4220 600K 0

专利信息

申请日期 2025-07-11 申请号 CN202110894793.6
公开(公告)号 CN113782328A 公开(公告)日 2021-12-10
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 浙江英洛华磁业有限公司
简介 本发明公开了一种磁控溅射烧结系钕铁硼磁体晶界扩散防粘连的处理方法 : 将磁控溅射稀土金属薄膜层后的钕铁硼磁体浸入处理液中,所述处理液为乙醇、聚合物、粘结剂的混合物,然后取出浸泡后的磁体加热挥发溶剂,在磁体表面形成胶膜,再将形成胶膜的磁体紧密叠放,装入烧结容器中,再将烧结容器放入真空烧结炉中进行高温晶界扩散热处理,制得稀土金属扩散烧结系钕铁硼磁体。本发明通过浸泡处理液,在磁控溅射后钕铁硼磁体表面形成薄薄的一层胶膜,使得在高温烧结扩散过程中磁体与磁体接触不会产生粘连现象,而且提高了装载量,提高了生产效率。磁体之间的彼此接触还提高了稀土金属的扩散效率,增加了磁体性能。


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