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高性能薄膜压力传感器 发明申请

2023-11-30 4740 270K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 CN201510504678.8
公开(公告)号 CN105021341A 公开(公告)日 2015-11-04
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 熊辉
简介 本发明公开了一种高性能薄膜压力传感器,包括一个圆形金属弹性体,所述圆形金属弹性体上采用真空镀膜的方法依次制备有绝缘膜、应变电阻、引线焊盘和保护膜;所述应变电阻采用砷化镓、硫化钐、氮化镓中的一种制备成薄膜,通过光刻工艺形成四个敏感电阻在所述圆形金属弹性体上按中心轴对称分布构成惠斯通电桥电路。所述砷化镓、硫化钐、氮化镓中加入质量百分比小于5%的硅、硫、以及一种或多种稀土元素,降低电阻温度系数,提高电阻温度稳定性。与现有技术相比,由于敏感材料应变因子大于10,提高了传感器的灵敏度,同时又减小了电阻温度系数。传感器的灵敏度和电阻温度系数均优于同类产品,同时保留了薄膜压力传感器的其它优良性能。


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