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反应熔滴沉积装置及用其制备弥散强化铜的方法 发明授权

2023-12-16 1290 600K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201410065143.0
公开(公告)号 CN103920878B 公开(公告)日 2015-10-28
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 山东科技大学
简介 本发明公开了一种反应熔滴沉积装置,包括真空室、第一气源、第一抽真空系统和装有Cu-R合金粉末的料斗,其中R为稀土元素的一种或多种组合,所述第一气源、第一抽真空系统分别与真空室连通,所述真空室内设有由加热体进行加热的结晶器,所述料斗的底部设有落料装置使料斗中的Cu-R合金粉末落入结晶器上。本发明提供的反应熔滴沉积装置及用其制备弥散强化铜的方法,控制气氛的成分,通过气-液反应制备复合材料,液相厚度小,扩散距离短;通过可控的原位反应制备弥散强化金属基复合材料。逐层沉积,制备大块复合材料锭。


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