客服热线:18202992950

TARGET FOR ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION, ELECTRON BEAM-EXCITED ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE, AND PRODU 发明申请

2023-03-29 2560 4520K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 EP13848529
公开(公告)号 EP2913376A1 公开(公告)日 2015-09-02
公开国别 EP 申请人省市代码 全国
申请人 Hamamatsu Photonics K K
简介 A target for ultraviolet light generation comprises a substrate adapted to transmit ultraviolet light therethrough and a light-emitting layer disposed on the substrate and generating ultraviolet light UV in response to an electron beam. The light-emitting layer includes a powdery or granular rare-earth-containing aluminum garnet crystal doped with an activator. The light-emitting layer has an ultraviolet light emission peak wavelength of 300 nm or shorter.


您还没有登录,请登录后查看下载地址


反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报  |  京ICP备2021025988号-4