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一种分子/离子印迹型复合光催化剂的制备方法 发明授权

2023-09-24 1960 710K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201310626767.0
公开(公告)号 CN103657733B 公开(公告)日 2015-08-26
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 江苏大学
简介 本发明一种选择性降解分子印迹光催化剂制备方法,采用的制备原理是:首先,将稀土金属离子与土霉素抗生素进行配合;其次,再将配合物作为模板分子,利用分子印迹技术将其接枝到POPD/TiO2/粉煤灰漂珠表面;再次,采用紫外光照射降解去除印迹模板中土霉素抗生素配体;最后,得到含有稀土金属离子的印迹光催化材料,进一步实现土霉素抗生素的高效选择性光催化降解。本发明创新性的采用分子与金属离子形成配合物的特点,并以其为分子印迹聚合物的模板分子,去除掉配位分子以后,在合成的印迹光催化剂上留下具有选择性的目标分子和提高光催化活性的离子活性位点。在实现选择性的同时也提高了印迹催化剂的光催化降解活性。


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