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单涂层的厚氧化物膜 发明授权

2023-06-24 4060 3092K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201180022027.5
公开(公告)号 CN102870244B 公开(公告)日 2015-08-19
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 美国超导体公司
简介 一种制品,包括衬底和沉积在所述衬底上的均质金属氟氧化物中间膜层,所述中间膜包含稀土金属、碱土金属和过渡金属。所述中间膜具有小于20%的缺陷密度,并且在热处理后能够转化成化学计量厚度大于1μm且至多5μm的稀土金属-碱土金属-过渡金属-氧化物超导体膜。还公开了另一制品,包括衬底和化学计量厚度大于1μm且至多5μm的均质超导体膜。此外,公开了制备这两种制品的方法。


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