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一种涂层导体超导膜及其制备方法 发明授权

2023-03-05 1920 2807K 0

专利信息

申请日期 2025-07-18 申请号 CN201310275186.7
公开(公告)号 CN103367626B 公开(公告)日 2015-08-12
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 西北有色金属研究院
简介 本发明公开了一种涂层导体超导膜,该超导膜由YHfxBa2+xCu3Oz超导层和覆着于YHfxBa2+xCu3Oz超导层表面的Y0.9Gd0.1Ba2Cu3Oy膜层组成,其中x为0.02~0.04。另外,本发明还公开了该超导膜的制备方法。本发明的超导膜具有多种类型的缺陷结构,第一层引入铪酸钡;第二层改变稀土离子化学计量比引入离子缺陷;第一层表面的纳米点柱状缺陷可以诱导第二层膜形成界面诱导钉扎,这些缺陷结构形成的钉扎中心提高了超导膜的性能。该超导膜以YHfxBa2+xCu3Oz超导层为基础提供良好的界面,可以促进化学溶液沉积制备第二层膜的同质外延生长,获得具有双轴织构的超导膜,增加了超导膜的厚度。


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