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R-T-B系烧结磁体及其制备方法 发明授权

2023-06-17 4980 860K 0

专利信息

申请日期 2025-07-21 申请号 CN202010016222.8
公开(公告)号 CN111081444B 公开(公告)日 2021-11-26
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 厦门钨业股份有限公司; 福建省长汀金龙稀土有限公司
简介 本发明公开了R‑T‑B系烧结磁体及其制备方法。该R‑T‑B系烧结磁体包含:R、B、Ti、Ga、Al、Cu和T,其含量如下:R的含量为29.0~33%;B的含量为0.86~0.93%;Ti的含量为0.05~0.25%;Ga的含量为0.3~0.5%,但不为0.5%;Al的含量为0.6~1%,但不为0.6%;Cu的含量为0.36~0.55%;所述百分比为质量百分比。本发明通过采用低B技术,在不添加或少量添加重稀土的情况下,既提高了R‑T‑B系烧结磁体的剩磁性能,也保证了磁体的矫顽力和方形度。


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