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一种激光微焦点等离子体Kα射线源 发明申请

2023-10-02 4160 516K 0

专利信息

申请日期 2025-07-09 申请号 CN201510066387.5
公开(公告)号 CN104617482A 公开(公告)日 2015-05-13
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
简介 本发明提供了一种激光微焦点等离子体Kα射线源,本发明包括真空靶室系统,由真空管道连接的机械泵、分子泵;机械泵作为前级,分子泵通过法兰口与靶室相连;所述电磁辐射屏蔽层为圆筒形聚四氟乙烯层, 通过螺栓固定于真空靶室壁;所述激光束聚焦装置为一块F/3离轴抛物镜,放置于真空靶室内固定底座上。靶运动系统,由六维步进电机和靶架组成,靶架位于靶室中心, 望远瞄准系统中轴线上。望远瞄准系统,由一台长焦距望远镜以及可见光CCD组成,通过转接法兰连接到真空靶室上。电子束偏转装置为一块环形稀土永磁铁,位于在靶架之后, 样品台之前。


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