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一种3微米电解铜箔添加剂的制备方法、制品及其应用 发明申请

2023-07-01 1420 539K 0

专利信息

申请日期 2025-07-08 申请号 CN202110995807.3
公开(公告)号 CN113652718A 公开(公告)日 2021-11-16
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 安徽华威铜箔科技有限公司
简介 本发明公开了一种3微米电解铜箔添加剂的制备方法、制品及其应用。包括以下原料组分:烷基酚聚氧乙烯磺酸钠、硫酸铈、辛基酚聚氧乙烯醚、苯基二硫丙烷磺酸钠、十二烷基硫酸钠、萘二磺酸钠、3‑(苯骈噻唑‑2‑巯基)丙烷磺酸钠、羟乙基纤维素。本发明稀土添加剂在镀液中改善镀液覆盖能力和分散能力,提高阴极电流效率;使镀层晶状细小、致密,铜箔表面光亮细致,改善材料焊接效果和抗氧化能力,生产的极极薄电解铜箔导电性能好、表面晶粒平整、轮廓低,抗拉强度、高延伸率、高伸长率、亲水性好、高温稳定性好,物性参数可达:单位面积重量28±2g/mm2、常温抗拉强度≥27Kg/mm2、常温延伸率≥2.5%、高温抗拉强度≥20Kg/mm2、高温延伸率≥3%、表面粗糙度Ra≤0.25μmRz : ≤2.5μm。


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