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碳化硅陶瓷及其制备方法和半导体零件 发明授权

2023-10-07 4780 647K 0

专利信息

申请日期 2025-08-07 申请号 CN201911360846.5
公开(公告)号 CN111004034B 公开(公告)日 2021-11-12
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 深圳市商德先进陶瓷股份有限公司
简介 本发明涉及一种碳化硅陶瓷及其制备方法和半导体零件。上述碳化硅陶瓷的制备方法包括如下步骤:将碳化硅微粉、金属元素的氯化物、环氧丙烷、第一分散剂及第一溶剂混合并在真空条件、700℃~900℃下进行加热处理,得到预处理颗粒,其中,金属元素为稀土元素或锶元素;将预处理颗粒与第二分散剂、粘结剂、第二溶剂和第一碳源混合并造粒,得到造粒粉;将造粒粉成型,得到第一预制坯;将第一预制坯与第二碳源加热混合,使第二碳源呈液态,然后加压至3MPa~7MPa,得到第二预制坯;将第二预制坯和硅粉进行反应烧结,得到碳化硅陶瓷。上述碳化硅陶瓷的制备方法能够得到力学性能较好的碳化硅陶瓷。


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