| 申请日期 | 2026-04-19 | 申请号 | TW106106991 |
| 公开（公告）号 | TWI745355B | 公开（公告）日 | 2021-11-11 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 日商JX金属股份有限公司 | ||
| 简介 | 一种稀土类薄膜磁铁以、、为必要成分其特征在于：于在表面存在氧化膜之基板上具备基底膜作为第1层于前述第1层上具备--膜作为第2层。目的在于提供一种即便为相当于化学计量组成附近之组成范围之0120≦/()<0150的组成范围亦不会发生膜之剥离或基板之破坏具有良好之磁特性之稀土类薄膜磁铁及其制造方法。 | ||
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