| 申请日期 | 2025-06-28 | 申请号 | TW100135616 |
| 公开（公告）号 | TWI453285B | 公开（公告）日 | 2014-09-21 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 神户制钢所股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明系提供一种铝合金膜，在薄膜电晶体基板、反射膜、反射阳极电极、触控面板感测装置等之制造工程上，能够有效地防止在氯化钠溶液的浸渍下铝合金表面之腐蚀或针孔腐蚀(黑点)等之腐蚀而耐蚀性佳，而且，也能防止生成Hillock、耐热性绝佳之铝合金膜。本发明之铝合金膜，系在基板上被用於配线膜或者反射膜之铝合金膜，其特徵系含有钽(Ta)及/或钛(Ti)：0.01～0.5原子%、与稀土族元素：0.05～2.0原子%。 | ||
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