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一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法 发明申请

2023-02-22 4490 440K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN201410316423.4
公开(公告)号 CN104045954A 公开(公告)日 2014-09-17
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 重庆理工大学
简介 本发明提供一种PMMA作为基质的稀土红光薄膜的制备方法,以稀土配合物Eu(TTA)2Tpy-OCH3作为发光分子,将该稀土铕配合物掺杂到PMMA基质中,通过溶剂蒸发方法得到薄膜产品;其中,PMMA和稀土配合物的重量之比为100:(1~10)。由于高分子基质对稀土发光的能量有传递作用,所以本发明制得的薄膜发光性能好,透明性能好。本发明主要用于电脑、电视、手机等电子终端,作为平板显示领域的发光材料。同比其他方法,本方法制备成本低,方法简单易操作。具有很广泛的应用前景。


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