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R-T-B系烧结磁体的制造方法 发明申请

2023-06-01 1120 2302K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 CN201380004680.8
公开(公告)号 CN104040654A 公开(公告)日 2014-09-10
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 日立金属株式会社
简介 本发明的R-T-B系烧结磁体的制造方法包括:准备R-T-B系烧结磁石体的工序,上述R-T-B系烧结磁石体由稀土元素的含量定义的R量为31质量%以上、37质量%以下;准备RH扩散源的工序,上述RH扩散源含有重稀土元素RH和30质量%以上、80质量%以下的Fe,重稀土元素RH为Dy和Tb中的至少一种;使上述烧结磁石体和上述RH扩散源能够相对移动并且能够接近或者接触地装入处理室内的工序;和一边使上述烧结磁石体和上述RH扩散源在上述处理室内连续或者间断地移动,一边将上述烧结磁石体和上述RH扩散源加热到700℃以上、1000℃以下的处理温度的RH扩散工序。


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