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Target for generating ultraviolet rays, electron beam excited ultraviolet light source, and a manu 发明授权

2023-05-30 4760 3285K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 JP2012233976
公开(公告)号 JP5580866B2 公开(公告)日 2014-08-27
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 Hamamatsu Photonics KK236436
简介 A target for ultraviolet light generation comprises a substrate adapted to transmit ultraviolet light therethrough and a light-emitting layer disposed on the substrate and generating ultraviolet light UV in response to an electron beam. The light-emitting layer includes a powdery or granular rare-earth-containing aluminum garnet crystal doped with an activator. The light-emitting layer has an ultraviolet light emission peak wavelength of 300 nm or shorter.


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