申请日期 | 2025-08-14 | 申请号 | CN201210500682.3 |
公开(公告)号 | CN103849835A | 公开(公告)日 | 2014-06-11 |
公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
申请人 | 北京有色金属研究总院 | ||
简介 | 本发明涉及一种带有保护层的Zr-Co-Re薄膜吸气剂及其制备方法,本发明吸气剂由吸气层和保护层组成,吸气层的主要成分为Zr、Co以及稀土元素La、Ce、Pr、Nd中的一种或几种,保护层的主要成分为Ni。本发明使用脉冲激光沉积镀膜方法制备,在绒面单晶硅上沉积含有保护层和吸气层的双层结构薄膜吸气剂。绒面衬底能增大吸气薄膜有效面积,从而提高吸气速率和吸气量。吸气层表面镀有Ni保护层,Ni对氢具有解离功能,能够提高氢的吸附量,并且保护层能够阻碍氧的吸附,降低激活温度。本发明可在180~350℃烘烤的过程中实现激活,烘烤后吸气剂在室温条件下具有良好的吸气性能,可用于高真空微电子器件中,消除内部残余气体。 |
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