| 申请日期 | 2025-07-08 | 申请号 | CN201410107557.5 |
| 公开（公告）号 | CN103839671A | 公开（公告）日 | 2014-06-04 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 沈阳中北通磁科技股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种钕铁硼稀土永磁器件的制造方法，首先成钕铁硼稀土永磁毛坯，之后进行机械加工制成钕铁硼稀土永磁体，之后进行镀膜工序制成钕铁硼稀土永磁器件，镀膜共分3层，第一层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.02-2μm，第二层为磁控溅射镀一种以上靶材的混合镀层，镀层厚度为：1-20μm，第三层为磁控溅射镀层，镀层厚度为：0.1-5μm；采用本发明的磁控溅射镀膜作稀土永磁器件的表面处理工序，不仅提高了稀土永磁器件的抗腐蚀能力，同时也提高了稀土永磁器件的磁性能。 | ||
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