| 申请日期 | 2025-09-12 | 申请号 | CN201880005004.5 |
| 公开（公告）号 | CN110088353A | 公开（公告）日 | 2019-08-02 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 三环瓦克华(北京)磁性器件有限公司; 北京中科三环高技术股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开一种镀膜设备及镀膜方法。镀膜设备包括镀膜室，镀膜室的顶部安装有靶材，其特征在于，靶材包括第一靶材和第二靶材；第一靶材为Nd靶材，或者为Pr靶材，或者为Nd、Pr、Cu中至少两种以上的合金靶材；第二靶材为Tb靶材；第一靶材位于第二靶材的前方。本发明的镀膜设备及镀膜方法，提高了重稀土金属的使用效率。 | ||
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