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Preparing a precursor and lanthanid contg. lanthanid contg. deposition 发明授权

2023-11-02 4300 229K 0

专利信息

申请日期 2025-06-27 申请号 JP2011512702
公开(公告)号 JP5666433B2 公开(公告)日 2015-02-12
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 Rail Liquide Georges Claude de Purosede anonym pool Reteyudo Rekusupurowatashion et Societe591036572
简介 Methods and compositions for depositing rare earth metal-containing layers are described herein. In general, the disclosed methods deposit the precursor compounds comprising rare earth-containing compounds using deposition methods such as chemical vapor deposition or atomic layer deposition. The disclosed precursor compounds include a cyclopentadienyl ligand having at least one aliphatic group as a substituent and an amidine ligand.


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