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磁性高熵合金薄膜及其制备方法与高熵合金薄膜的应用 发明授权

2023-03-10 4810 292K 0

专利信息

申请日期 2025-08-28 申请号 CN201610602059.7
公开(公告)号 CN107675059B 公开(公告)日 2019-06-21
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 龙岩紫荆创新研究院
简介 本发明提供了磁性高熵合金薄膜及其制备方法与高熵合金薄膜的应用:磁性高熵合金薄膜包括铁、钴、镍、铝、钐或钕;或者磁性高熵合金薄膜包括铁、钴、镍、铝、钐、钕;磁性高熵合金薄膜的方法,包括以下步骤:熔炼、电磁搅拌、注模、破碎成粉末、过筛、热喷涂;以及介绍了磁性高熵合金薄膜的用途。本发明不仅可以提高高熵合金的强度和耐腐蚀性能,而且通过往高熵合金中引入金属钐或者金属钕这类具有良好原子磁矩的稀土元素,可以在保证高熵合金力学性能的同时,使得高熵合金材料同时具有磁性能,能够拓展高熵合金材料的应用领域。


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