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用于制作磁瓦的溅射靶材 发明申请

2023-10-31 4220 1550K 0

专利信息

申请日期 2025-06-24 申请号 CN201310137367.3
公开(公告)号 CN103233154A 公开(公告)日 2013-08-07
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 山西汇镪磁性材料制作有限公司
简介 本发明涉及制作磁瓦的辅助材料,具体为一种用于制作磁瓦的溅射靶材,解决了目前制作磁瓦时缺乏有效的辅助材料的问题。一种用于制作磁瓦的溅射靶材,是由Ⅰ类稀土材料和Ⅱ类金属材料构成的合金,所述Ⅰ类稀土材料由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho中的一种或几种以任意比例混合,占溅射靶材总重量的范围是:大于等于80%且小于100%;所述Ⅱ类金属材料由Ga、Al、Sn、Mg、Ca、Cu中的一种或几种以任意比例混合。所述溅射靶材呈颗粒状合金。本发明设计合理,能够更好地制备出磁力线辐射发散的磁瓦。


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