| 申请日期 | 2025-06-28 | 申请号 | TW098129885 |
| 公开（公告）号 | TWI404061B | 公开（公告）日 | 2013-08-01 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 神户制钢所股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明系关於可更精细地重现於反射膜表面形成基板之槽角或凹痕等，达到光资讯记录媒体之杂讯减低的同时，提供具有较高反射率之A1基合金反射膜、及使用於形成如此反射膜的有用溅镀靶。本发明系关於使用於光资讯记录媒体之光资讯记录媒体用反射膜，实质上由含有2.0～15.0原子%之稀土类元素的A1基合金所成，於反射膜之厚度方向中之结晶子尺寸为30nm以下的光资讯记录媒体用反射膜。 | ||
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