| 申请日期 | 2025-06-28 | 申请号 | CN200810083610.7 |
| 公开（公告）号 | CN101250680B | 公开（公告）日 | 2013-06-26 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | ||
| 简介 | 本发明提供一种等离子体处理装置，其特征在于，使用如下所述的等离子体处理容器的再生方法进行等离子体处理，该等离子体处理容器的再生方法是：向用稀土族氧化物、聚酰亚胺和聚苯并咪唑中的任何一种喷镀膜覆盖基材表面得到的等离子体处理容器的内部部件的、随着在等离子体中的使用而劣化的喷镀膜上，再喷镀与所述喷镀膜相同的材料。 | ||
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