| 申请日期 | 2025-08-19 | 申请号 | CN201180041104.1 |
| 公开（公告）号 | CN103069042A | 公开（公告）日 | 2013-04-24 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所 | ||
| 简介 | 本发明提供一种技术，在薄膜晶体管基板、反射膜、反射阳极电极、触摸屏传感器等的制造工序中，能够有效防止氯化钠溶液的浸渍下的Al合金表面的腐蚀和针孔腐蚀(黑点)等的腐蚀，耐腐蚀性优异，而且能够防止小丘的生成且耐热性也优异的Al合金膜。本发明的Al合金膜，是用于配线膜或反射膜的Al合金膜，其中，含有Ta和/或Ti：0.01～0.5原子％、稀土类元素：0.05～2.0原子％。 | ||
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