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具有高导电率和耐电化学腐蚀的银合金反射薄膜及其制备方法 发明申请

2023-03-08 2740 398K 0

专利信息

申请日期 2025-08-07 申请号 CN201210482650.5
公开(公告)号 CN102943221A 公开(公告)日 2013-02-27
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 仝泽彬; 胡珊珊
简介 一种具有高导电率和耐电化学腐蚀的银合金反射薄膜及其制备方法,其特征在于:所述银合金薄膜为非晶态银合金反射薄膜(3),在所述银合金反射薄膜中含有0.0001~15份的稀土元素,其余为银元素,上述为质量份。所述银合金反射薄膜中还加入有0.001~25份的铁、钴、镍、钨、锡、钯、金、铑、铱、钌中的一种或一种以上。制备时以玻璃片为基片(1),以铬、铝、钛、二氧化硅、镍或铁作为过渡层(2)采用真空蒸镀、磁控溅射、离子溅射、化学气相沉积、电镀或化学镀方法镀制得到非晶态银合金反射薄膜(3)。本发明的非晶态银合金薄膜具有具有高导电率和耐电化学腐蚀性,制备工艺简单,适用于制造LCD器件、LED器件、OLED器件、EC器件或染敏化太阳能电池器件。


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