客服热线:18202992950

高纯氧化铈粉制备方法及包含其的CMP研磨浆 发明授权

2023-05-30 1640 478K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 CN200980101122.7
公开(公告)号 CN101873999B 公开(公告)日 2013-01-23
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 纽维尔株式会社
简介 本发明涉及一种形成高纯化中间体硝酸铈水合物(Ce(NO3)3·6H2O)而制造氧化铈(CeO2)的方法,具体涉及一种在氯化铈组合物上滴定氢氧化钠后分为上清液(supernatant)与沉淀物(sediment),并回收上述沉淀物(sediment);为减少上述包含在沉淀物里的镨,微细喷射大量的净化水后通过过滤获得固体铈前驱体;使用上述通过在铈前驱体上滴定硝酸形成的硝酸铈水合物制备氧化铈,并将通过滴定氢氧化钠精制及通过微细喷射大量净化水水洗形成的高纯硝酸铈水合物作为中间体完成制备,因此不含各种稀土元素杂质,尤其是不含对CMP研磨浆物理特性有严重不良影响的镨的高纯氧化铈粉制备方法及包含其的CMP研磨浆。


您还没有登录,请登录后查看下载地址


反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报  |  京ICP备2021025988号-4