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一种连续式低温烧结高导热率AlN陶瓷的方法及其产品 发明授权

2023-02-22 4670 316K 0

专利信息

申请日期 2025-06-28 申请号 CN200910107044.3
公开(公告)号 CN101570437B 公开(公告)日 2013-01-09
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 潮州三环(集团)股份有限公司
简介 本发明涉及到微电子封装材料领域或陶瓷材料领域,尤其涉及到一种连续式低温烧结高导热率AlN陶瓷的方法及其产品。其AlN陶瓷由AlN粉体和添加剂进行烧结而成,所述的AlN粉体平均粒径为1.0~2.0μm,氧含量≤1.0%,添加剂由纳米AlN粉、烧结助剂和稀土金属氧化物组成,烧结助剂选自CaCO3和Li2CO3,稀土金属氧化物选自Y2O3、Sm2O3、Dy2O3、Nd2O3、Ho2O3和Er2O3,其中烧结助剂的含量为1~2wt%,纳米AlN粉的用量占总重量的5~10%,稀土金属氧化物的含量为1~3wt%。其有益效果是:通过超细的氮化铝粉体和助烧剂来提高氮化铝陶瓷的烧结性能,降低AlN陶瓷的烧结温度,使之可以在1450℃~1600℃温度范围内致密化烧结,还使得AlN陶瓷的热导率达170~220W/m.K。可在连续式氢氮气氛炉中烧结,提高生产效率,具有能耗低,产量大,成本低等优点。


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