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一种高分辨率高透光度半导体用3D打印式正性光刻胶 发明申请

2023-03-06 3340 359K 0

专利信息

申请日期 2025-07-24 申请号 CN201910172308.7
公开(公告)号 CN109739070A 公开(公告)日 2019-05-10
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中山职业技术学院
简介 本发明公开了一种高分辨率高透光度半导体用3D打印式正性光刻胶,其通过以下方法制备:采用稀土物质、钛源、可溶性镁盐、可溶性锂盐、甲基丙烯酸酯单体等为原料,通过高温水热反应制得钛酸镁锂改性甲基丙烯酸酯单体;然后将其参通过自由基聚合反应,合成制得以钛酸镁锂胶体粒子为“锚点”的高度支化的改性丙烯酸树脂;之后将改性丙烯酸树脂、产酸剂、助剂等充分分散均质,即制得流动性好、聚合度高、抗蚀刻性能优异的光刻胶成品。该光刻胶属于化学放大类,其在193nm深紫外光源下感光性能强,灵敏度好,分辨率达到0.09~0.11μm,光刻综合性能达到国际最先进水平,应用前景极为广阔。


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