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一种钕铁硼磁体的制备方法 发明授权

2023-02-18 3030 1637K 0

专利信息

申请日期 2025-07-07 申请号 CN200910241946.6
公开(公告)号 CN102103916B 公开(公告)日 2012-12-19
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京有色金属研究总院; 有研稀土新材料股份有限公司
简介 一种钕铁硼磁体的制造方法,本发明磁体的成分通式为:R1R2FeMB,R1代表选自Nd、Pr、La、Ce、Sm、Sc、Y和Eu之中的至少一种元素,含量为23~35wt%;R2代表选自Tb、Dy、Gd、Ho之中的至少一种元素,含量为0.1~5wt%;M代表除Fe以外的过渡族金属,含量为0.01~5wt%;B为单质硼,含量为0.8~1.2wt%;余量为Fe及不可避免杂质。其制备步骤为:把金属R2中的一种或几种元素镀到磁体表面,然后通过一级高温热处理使所镀金属R2扩散到磁体内部,再通过二级低温回火消除高温处理带来的不平衡组织及内应力。其中镀膜所采用的方法为低温熔盐电沉积法。本发明的优点是:可以大大提高生产效率,降低磁体制备过程中重稀土用量,节约稀土资源,同时在不降低磁体剩磁和磁能积的情况下获得高矫顽力。


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