| 申请日期 | 2025-07-22 | 申请号 | CN201180010694.1 |
| 公开（公告）号 | CN102770576A | 公开（公告）日 | 2012-11-07 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所; 株式会社钢臂功科研 | ||
| 简介 | 本发明提供一种技术，其在使用Al基合金溅射靶时，即使进行高速成膜也能够抑制飞溅的发生。本发明涉及一种Al基合金溅射靶，其含有Ni和稀土元素，在利用背散射电子衍射像法对上述Al基合金溅射靶的表层部、1/4×t(t：Al基合金溅射靶的厚度)部、1/2×t部的各溅射面的法线方向的结晶方位、、、及进行观察时，满足以下要件：(1)在将上述±15°、上述±15°及上述±15°的总面积率设为R(各处的R中，上述表层部为Ra，上述1/4×t部为Rb，上述1/2×t部为Rc)时，R为0.35以上且0.80以下，并且，(2)上述Ra、上述Rb及上述Rc在R平均值[Rave＝(Ra+Rb+Rc)/3]的±20％的范围内。 | ||
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