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用于物理气相沉积靶材的稀土钡铜氧化物超导粉末的制备 发明申请

2023-01-23 1290 351K 0

专利信息

申请日期 2025-10-19 申请号 CN201910065960.9
公开(公告)号 CN109678195A 公开(公告)日 2019-04-26
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 上海超导科技股份有限公司
简介 本发明提供了一种用于物理气相沉积靶材的稀土钡铜氧化物超导粉末的制备,即采用两步法进行粉末制备。第一步,将一定比例的起始原料碳酸钡和氧化铜粉末进行混合,进行高温合成,获得混合粉末;第二步,将混合粉末加入一定比例的起始原料稀土氧化物或稀土氧化物和其他氧化物的混合物,再次进行高温合成,最后获得高性能超导粉末。与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:1、可以显著提高超导粉末的相纯度,减小有害氧化铜、碳酸钡等未反应原料的含量;2、可以显著降低超导粉末杂质元素特别是碳氮含量;3、该方法获得的超导粉末可制备物理气相沉积用超导靶材,可获高性能的超导带材。


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