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A method for producing a single crystal of SiC 发明授权

2022-12-30 1430 40K 0

专利信息

申请日期 2025-06-25 申请号 JP2008126039
公开(公告)号 JP4992821B2 公开(公告)日 2012-08-08
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 TOYOTA MOTOR CORP
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To provide a method for producing a SiC single crystal having high crystallinity by a solution method. SOLUTION : The SiC crystal is grown on a growth surface of a seed crystal serving as an Si surface using an Si-Cr-Ni-C melt comprising Si, C, Cr and Ni or an Si-Cr-C melt. The ratio (atomic ratio) of Ni to Cr (Ni/Cr) in the melt is ≤0.2. The melt comprises at least one element other than Si, Cr, Ni or C, chosen from a rare-earth element, a transition metal element and an alkaline earth metal element, preferably Ce. COPYRIGHT : (C)2010, JPO&INPIT


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